今天為廣大朋友介紹的是——污水處理氣浮裝置
循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)及旁流水處理方法，該旁流水處理系統(tǒng)包括旁流取水單元;與旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置，電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口，且上端設(shè)有出口;設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽極;位于反應(yīng)室和陽極之間的刮刀;及驅(qū)動刮刀的驅(qū)動裝置;驅(qū)動裝置位于所述反應(yīng)室的下方;與電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器，其溢流口與循環(huán)水系統(tǒng)相連;與反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。該旁流水處理系統(tǒng)通過控制水量、礦物質(zhì)、懸浮物和生態(tài)四個平衡，將水質(zhì)控制在適當?shù)姆秶鷥?nèi)，從而解決循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中結(jié)垢、腐蝕、懸浮物和微生物的問題。
1.一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水，其特征在于，包括：
旁流取水單元;
與所述旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置，所述電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;
所述反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口，且上端設(shè)有出口;
設(shè)置在所述反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽極;
位于所述反應(yīng)室和陽極之間的刮刀;
及驅(qū)動所述刮刀的驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置位于所述反應(yīng)室的下方;
與所述電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器，所述旋液分離器設(shè)有進料口、溢流口和底流口，所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連，所述進料口與所述反應(yīng)室的出口相連;
與所述反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括控制單元，所述控制單元用于分別控制旁流取水單元、電化學(xué)水處理裝置、旋液分離器和排污單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括人工檢測校驗單元;
所述人工檢測校驗單元用于調(diào)整控制單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括與控制單元連接的遠程監(jiān)控單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述排污單元包括儲污倉;所述儲污倉設(shè)置有排污入口和排污出口;
所述反應(yīng)室的排污口和所述儲污倉的排污入口相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述旋液分離器的底流口與儲污倉的排污入口相連。
7.一種根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水旁流水的方法，包括以下步驟：
將旁流取水單元中的待處理水通入到電化學(xué)水處理裝置中，得到電解處理后的水、消毒物質(zhì)和水垢;
將所述電解處理后的水和消毒物質(zhì)通入到旋液分離器中，得到懸液分離處理后的水、消毒物質(zhì)和懸浮物，所述懸液分離處理后的水和消毒物質(zhì)輸送到所述循環(huán)水系統(tǒng)中;
將所述水垢和懸浮物通入到排污單元中進行處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述電化學(xué)水處理裝置中的循環(huán)冷卻水的停留時間TAR按照下述反應(yīng)式進行計算：
TAR=V÷L=(K-1)×V÷Qe;
其中，V為循環(huán)水系統(tǒng)保有體積，m3;
L為損失(Qb+Qd);Qb為排污量;Qd為飛濺或風(fēng)吹損失量;
實際或運行濃縮倍數(shù)：K=Qm÷(Qb+Qd);Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
蒸發(fā)量Qe=Q×F×(ΔT×1.8÷1000)，Q為循環(huán)冷卻水循環(huán)量;F為顯冷校正系數(shù)，年平均0.75，冬季為0.65，夏季為0.85;ΔT為冷卻塔溫度差。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述排污單元按照下述反應(yīng)式得到的排污時間進行排污：
t=3600×(Qm÷(f×K×Q1)-Qd÷(f×Q1))
其中，Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
Qd為冷卻塔飛濺損失;
Q1為旁流處理量;
t為排污時間;
f為排污頻率;
K為實際或運行濃縮倍數(shù)，循環(huán)水與補水中硫酸根的比值，無量綱。
循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是以水作為冷卻介質(zhì)，由換熱設(shè)備、冷卻設(shè)備、水泵、管道及其它有關(guān)設(shè)備組成，并循環(huán)使用的一種給水系統(tǒng)。旁流水，是從循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中分流并經(jīng)處理后，再返回循環(huán)冷卻水系統(tǒng)的那部分水。
循環(huán)冷卻水是指通過換熱器交換熱量或直接接觸換熱方式來交換介質(zhì)熱量并經(jīng)冷卻塔冷卻后，循環(huán)使用，以節(jié)約水資源。一般情況下，循環(huán)冷卻水是中性或弱堿性的，pH值控制在7～9.5之間。水經(jīng)過冷卻塔降溫之后(通常蒸發(fā)掉1～2%可以將剩下的98～99%的水的溫度降低5～10℃)，重新回到換熱器吸收熱量，如此循環(huán)不止;水循環(huán)過程中蒸發(fā)掉的是純水，水中的鹽份則會不斷濃縮，溶解鹽類的濃度不斷升高;難溶鹽或微溶鹽的濃度達到飽和濃度以上時，就會結(jié)晶析出，成為水垢，碳酸鈣則是循環(huán)水系統(tǒng)中比較為常見的水垢。同時冷卻塔中的循環(huán)水溫度一般為30℃左右，微生物滋生也是循環(huán)冷卻水中常見的問題。循環(huán)冷卻水在循環(huán)運行過程中不可避免地對換熱設(shè)備產(chǎn)生一系列的危害，即水垢、污垢的沉積、腐蝕的加劇、菌藻的滋生等，如不進行有效治理，循環(huán)冷卻水系統(tǒng)則很難正常運行。
目前，現(xiàn)有技術(shù)采用投加化學(xué)藥劑的方式處理循環(huán)冷卻水中的水垢、污垢的沉積、腐蝕的加劇、菌藻的滋生等問題，但是傳統(tǒng)加藥方式無法在線消毒，殺菌滅藻劑投加是間歇投加的，微生物在兩次投加之間會滋生，造成微生物和懸浮物問題;排污也是間歇式排污，碳酸鈣飽和指數(shù)LSI和穩(wěn)定指數(shù)RSI波動范圍大，結(jié)垢和腐蝕也難以得到穩(wěn)定的控制。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)及旁流水處理方法，本發(fā)明提供的旁流水處理系統(tǒng)能夠同時解決循環(huán)冷卻水的腐蝕、結(jié)垢、微生物和懸浮物問題。
本發(fā)明提供了一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水，包括：
旁流取水單元;
與所述旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置，所述電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;
所述反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口，且上端設(shè)有出口;
設(shè)置在所述反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽極;
位于所述反應(yīng)室和陽極之間的刮刀;
及驅(qū)動所述刮刀的驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置位于所述反應(yīng)室的下方;
與所述電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器，所述旋液分離器設(shè)有進料口、溢流口和底流口，所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連，所述進料口與所述反應(yīng)室的出口相連;
與所述反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括控制單元，所述控制單元用于分別控制旁流取水單元、電化學(xué)水處理裝置、旋液分離器和排污單元。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括人工檢測校驗單元;
所述人工檢測校驗單元用于調(diào)整控制單元。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括與控制單元連接的遠程監(jiān)控單元。
優(yōu)選地，所述排污單元包括儲污倉;所述儲污倉設(shè)置有排污入口和排污出口;
所述反應(yīng)室的排污口和所述儲污倉的排污入口相連。
優(yōu)選地，所述旋液分離器的底流口與儲污倉的排污入口相連。
本發(fā)明提供了一種根據(jù)上述技術(shù)方案所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水旁流水的方法，包括以下步驟：
將旁流取水單元中的待處理水通入到電化學(xué)水處理裝置中，得到電解處理后的水、消毒物質(zhì)和水垢;
將所述電解處理后的水和消毒物質(zhì)通入到旋液分離器中，得到懸液分離處理后的水、消毒物質(zhì)和懸浮物，所述懸液分離處理后的水和消毒物質(zhì)輸送到所述循環(huán)水系統(tǒng)中;
將所述水垢和懸浮物通入到排污單元中進行處理。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水在循環(huán)水系統(tǒng)中的停留時間TAR按照下述反應(yīng)式進行計算：
TAR=V÷L=(K-1)×V÷Qe;
其中，V為循環(huán)水系統(tǒng)保有體積，m3;
L為損失(Qb+Qd);Qb為排污量;Qd為飛濺或風(fēng)吹損失量;
實際或運行濃縮倍數(shù)：K=Qm÷(Qb+Qd);Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
蒸發(fā)量Qe=Q×F×(ΔT×1.8÷1000)，Q為循環(huán)冷卻水循環(huán)量;F為顯冷校正系數(shù)，年平均0.75，冬季為0.65，夏季為0.85;ΔT為冷卻塔溫度差。
優(yōu)選地，所述排污單元按照下述反應(yīng)式得到的排污時間進行排污：
t=3600×(Qm÷(f×K×Q1)-Qd÷(f×Q1))
其中，Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
Qd為冷卻塔飛濺損失;
Q1為旁流處理量;
t為排污時間;
f為排污頻率;
K為實際或運行濃縮倍數(shù)，循環(huán)水與補水中硫酸根的比值，無量綱。
本發(fā)明提供了一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水，包括：旁流取水單元;與所述旁流取水單元連接的電化學(xué)水處理裝置，所述電化學(xué)水處理裝置中包括反應(yīng)室;所述反應(yīng)室的底端設(shè)有入口和排污口，且上端設(shè)有出口;設(shè)置在所述反應(yīng)室內(nèi)部頂端的陽極;位于所述反應(yīng)室和陽極之間的刮刀;及驅(qū)動所述刮刀的驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置位于所述反應(yīng)室的下方;與所述電化學(xué)水處理裝置連接的旋液分離器，所述旋液分離器設(shè)有進料口、溢流口和底流口，所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連，所述進料口與所述反應(yīng)室的出口相連;與所述反應(yīng)室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。本發(fā)明提供的系統(tǒng)中的電化學(xué)水處理裝置能夠控制水的結(jié)垢和微生物的滋生;旋液分離器能夠分離循環(huán)冷卻水中的懸浮物和捕捉從電化學(xué)水處理裝置中逃逸的水垢結(jié)晶;排污單元將電化學(xué)水處理裝置中的水垢和旋液分離器中的懸浮物以及部分循環(huán)冷卻水排出系統(tǒng)之外，實現(xiàn)循環(huán)冷卻水中的礦物質(zhì)平衡，維持碳酸鈣在穩(wěn)定狀態(tài)，易腐蝕離子濃度處于安全范圍內(nèi)，從而控制循環(huán)冷卻水的腐蝕問題，因此，該循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)通過控制水量、礦物質(zhì)、懸浮物和生態(tài)四個平衡，將水質(zhì)控制在適當?shù)姆秶鷥?nèi)，從而解決循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中結(jié)垢、腐蝕、懸浮物和微生物的問題，保證循環(huán)水系統(tǒng)安全高效運行。實驗結(jié)果表明：本發(fā)明提供的旁流處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水后返回到循環(huán)水系統(tǒng)中，循環(huán)水系統(tǒng)中的循環(huán)冷卻水的濁度在20NTU以下;LSI維持在1.0～2.0之間;RSI維持在4.0～6.0之間。
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