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半導體用去離子水設備工作原理及處理過程

作者:北京中天恒遠 發(fā)布于:2018-07-17 13:25:46瀏覽量:

  半導體用去離子水設備工作原理及處理過程,中天恒遠編輯李德馨認真總結整理了相關的知識,下面為大家詳細講解一下,希望對您有所啟發(fā)。

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半導體用去離子水設備工作原理及處理過程

  文章主體正文:

  半導體用去離子水設備工作原理及處理過程,小編聽取根據(jù)技術人員的介紹,認真整理總結了一下,為您詳細介紹

  一,半導體用去離子水設備工作原理

  種:一般通過陽陰離子交換樹脂取得的去離子水,出水電導率可降到10us/cm以下,再經(jīng)過混床就可以達到1us/cm以下了。但是這種方法做出來的水成本極高,而且顆粒雜質(zhì)太多,達不到理想的要求。目前已較少采用了。

  第二種:預處理(即砂碳過濾器+精密過濾器)+反滲透+混床工藝這種方法是目前采用比較多的,因為反滲透投資成本也不算高,可以去除90%已上的水中離子,剩下的離子再通過混床交換除去,這樣可使出水電導率:0.06左右。這樣是目前比較流行的方法。

  第三種:前處理與第二種方法一樣使用反滲透,只是后面使用的混床采用EDI連續(xù)除鹽膜塊代替,這樣就不用酸堿再生樹脂,而是用電再生。這就徹底使整個過程無污染了,經(jīng)過去離子水設備處理后的水質(zhì)可達到15M以上。但這這種方法的前期投資比較多,運行成本低。

  二,半導體用去離子水設備處理過程

  先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質(zhì),然后高壓通過反滲透膜,分離出溶劑與溶液。比較后一般還要經(jīng)過一步紫外殺菌以去除水中的微生物。假如此時電阻率還沒有達到要求的話,可以再進行一次離子交換過程,比較高電阻率可達到18兆。半導體行業(yè)中用的大多數(shù)是高純度的去離子水。

  半導體用去離子水設備工作原理及處理過程就介紹到這里了,如果想了解更多相關的知識,請關注我們的官網(wǎng)。

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