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光學(xué)玻璃標(biāo)準(zhǔn)超聲波清洗設(shè)備

  清洗方法:

  一槽和二槽藥水槽溫度:40-65度,漂洗槽和慢拉也一樣,烤箱溫度100-120度左右,每槽清洗時(shí)間3-5分鐘,振動(dòng)大小每槽滿頻率或80%頻率。超純水電阻14MΩ·cm以上,純水的純度對(duì)清洗有很大影響,水質(zhì)比較差會(huì)有很多水印和白點(diǎn)的,溢流水要中等大小。藥水一般是從后儲(chǔ)液槽加入,等溫度升上來(lái)后加入,并攪拌均勻溶解充分,藥水更換24小時(shí)為宜,漂洗槽純水更換1個(gè)班次為宜。

  我司采用先進(jìn)的超純水設(shè)備工藝流程,采用預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+EDI工藝,完全滿足超純水電阻率≥15MΩ·cm,保證產(chǎn)品質(zhì)量。

  產(chǎn)品特點(diǎn):

  1.自動(dòng)化程度高,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守

  2.水利用率高,實(shí)現(xiàn)比較大程度節(jié)水節(jié)電

  3.終端產(chǎn)水量,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。

  執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

  JBT 7621-1994 電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水

  GBT11446.1-2013電子級(jí)超純水中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

  GB6682-2000中國(guó)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室用水GB6682-2000

  ASTM D5127-2007美國(guó)電子和半導(dǎo)體水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

  GB/T 11446.3——1997 電子級(jí)水測(cè)試方法通則

  GB/T 11446.4——l997 電子級(jí)水電阻率的測(cè)試方法

  GB/T 11446.5——1997 電子級(jí)水中痕量金屬的原子吸收分光光度測(cè)試方法

  GB/T 11446.6——1997 電子級(jí)水中二氧化硅的分光光度測(cè)試方法

  GB/T 11446.7——1997 電子級(jí)水中痕量氯離子、硝酸根離子、磷酸根離子、硫酸根離子的離子色譜測(cè)試方法

  GB/T 11446.8——1997 電子級(jí)水中總有機(jī)碳的測(cè)試方法

  GB/T 11446.9——1997 電子級(jí)水中微粒的儀器測(cè)試方法

  GB/T 11446.10——1997 電子級(jí)水細(xì)菌總數(shù)的濾膜培養(yǎng)測(cè)試方法

  注意事項(xiàng)

  如果光學(xué)玻璃排除水質(zhì)、清洗藥水、振動(dòng)比較大、白片平磨下來(lái)擦架等都在水中進(jìn)行、漂洗槽水已經(jīng)更換后等原因,還有白點(diǎn)或水印,基本就是烤爐內(nèi)清潔衛(wèi)生造成的,基本是烤爐內(nèi)部比較底部四面角落有臟污或過(guò)濾器壽命到了,用干凈的無(wú)塵布粘純水或酒精擦拭干凈各個(gè)烤爐角落里的臟污,并用水瓢舀一瓢純水放置烤爐內(nèi),開啟烤爐風(fēng)機(jī)進(jìn)行水吸附烤爐內(nèi)空氣流動(dòng)的灰塵,換不同的位置吸附灰塵,吸附時(shí)間5-10分鐘。溢流水開大一點(diǎn),注意慢拉槽的慢拉速度,調(diào)節(jié)好速度,下快上慢的原則,慢拉附近不能有太大的氣流流動(dòng),眾所周知,純水是超純水,只要清洗干凈了,漂洗干凈了,沒(méi)有用有泡的清洗劑,烤爐衛(wèi)生搞好了,就算慢拉使玻璃表面掛滿水珠,放到烤爐里去烤干也不會(huì)有水印的,因?yàn)榧兯飵缀鯖](méi)有雜質(zhì)了,而且基本有水印,水印的出現(xiàn)的地方都在清洗架齒條的底部或上端齒條的兩側(cè);另外無(wú)泡清洗劑里含消泡劑(硅油類)很容易吸附玻璃表面,很難清洗下來(lái),也是造成水印的一種原因。


(責(zé)任編輯:李德馨)
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