電鍍涂裝超純水設(shè)備工藝流程

　　1、原水→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器→精密過(guò)濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透系統(tǒng)→RO水箱→增壓泵→EDI裝置 →終端精密過(guò)濾→紫外線殺菌→用水點(diǎn)(水質(zhì)可以達(dá)到16MΩ.cm以上即0.062μs/㎝以下)

　　2、原水→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器→精密過(guò)濾器→中間水箱→RO前水泵→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透系統(tǒng)→RO水箱→增壓泵→EDI裝置→去離子水箱→去離子水泵→拋光混床→終端精密過(guò)濾→紫外線殺菌→用水點(diǎn)(水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.055μs/㎝以下)

　　3、原水→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器→精密過(guò)濾器→中間水箱→一級(jí)反滲透高壓泵→一級(jí)反滲透系統(tǒng)→RO水箱→二級(jí)反滲透高壓泵→二級(jí)RO水箱→增壓泵→EDI裝置→去離子水箱→去離子水泵→拋光混床→終端精密過(guò)濾→紫外線殺菌→用水點(diǎn)(水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.055μs/㎝以下)

　　EDI超純水設(shè)備原理

　　EDI設(shè)備系統(tǒng)是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜,陽(yáng)膜和隔板多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜).淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽(yáng)膜截留,這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化,提純，濃縮或精制的目的。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。EDI超純水設(shè)備的這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。

　　超純水設(shè)備系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)

　　1. 無(wú)需酸堿再生：在混床中樹(shù)脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生， 而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作。保護(hù)了環(huán)境。

　　2. 連續(xù)、簡(jiǎn)單的操作：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過(guò)程變得復(fù)雜，而EDI的產(chǎn)水過(guò)程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒(méi)有復(fù)雜的操作程序，操作大大簡(jiǎn)便化。

　　3. 降低了安裝的要求：EDI系統(tǒng)與相當(dāng)處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場(chǎng)地的高度和窨靈活地構(gòu)造。模塊化的設(shè)計(jì)，使EDI在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護(hù)。